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45nm的光刻机，这个量级的光刻机国内能生产的也不少，但是做出来芯片的各种指数，比用他之前用的45纳米的光刻机做出来的高了至少一倍，有些指数甚至并不比20，15nm的差。
盯着手里的测试仔细的结果看了很久后，黄翔
的吸了一
气，他现在彻底相信了张致的话！
芯片的制作说起来很简单，手机使用的芯片，用的都是99.9999999999%单晶硅，而芯片的制作，其实就是在单晶硅上制作出各种集成线路，然后在加上晶体管，而大家经常说的xx纳米芯片，其实指的就是光刻机雕刻的线路，也就是集成线路的宽度。
你的线路的宽度越小，你在单位面积的硅晶片上能画的集成图就越大，这样在单位面积上的能集成的晶体管就越多，
面积等于长乘以宽，一款同样的芯片集成线路设计图，你45纳米用的硅晶做出来的面积，我10纳米的最少可做二十块。
当然，实际上芯片上还有其他的东西，并不是全部的位置都是集成线路，45nm实际上所需要的硅晶面积大概是100mm2，而10纳米的大概是8mm2，差不多十二倍吧。
也就是说，光硅晶片这一项，我的成本就只有你的十二分之一。
而且芯片越小，功率就越小，功率越小，发热量就越小，由于集成线路是一样，两款芯片的效果也是一样的，所以你觉得我会选哪款？
所以，这才为什么芯片会越做越小，因为做的越小，单块芯片的成本就越低，这样利润就越高。
（因为硅晶片在做成芯片之前，还要根据芯片的大小切割，所以每张大的硅晶片，张致都盖了很多个点化符）
