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未被光刻胶掩蔽的部分通过选择
去掉,从而将预先定义的图形转移到硅片的材料层上的步骤。
而目前的蚀刻设备分为三类,分别是介质蚀刻机、硅蚀刻机、金属蚀刻机,三者占比为48%、47%、5%,介质蚀刻机和硅蚀刻机是市场上主流的蚀刻设备。
中微半导体的蚀刻机属于介质蚀刻机,而北方华创的蚀刻机属于硅蚀刻机和金属蚀刻机。
半个小时之后,一台硅蚀刻机出现在无尘实验室里面。
思维社的工程师推着一台特制的电脑设备,将一条条数据线连接到硅蚀刻机的系统上。
然后从原始母本系统复制导出一个
作系统,又将硅蚀刻机原来的系统复制一份,两个复制体融合在一起,形成专业的硅蚀刻机
作系统。
最后导
硅蚀刻机,将原来的
作系统覆盖了。
不过到了这一步,事
还没有结束,一个
作系统并不是看设计得多么
妙,而是和设备相辅相成。
接下来需要进行半自动适应调整,不断在运行之中,将软件和硬件融为一体。
启动内部网络之后,硅蚀刻机的系统连接到思维社超算中心里面,在庞大的运算力支持下,就可以进行半自动适应调整。
带队工程师转过
说道:“麻烦王总,让你们的技术员
作硅蚀刻机工作,我们需要在运行的过程中调整参数和系统。”
“没问题。”王云
连忙挥挥手,让三个技术员上。
这个工作进行了两天时间。
此时这一台工作
度为40~24纳米硅蚀刻机,已经变成一台
度为40~16纳米的硅蚀刻机。
在这个过程中不仅仅修复了大量的漏
,还有错误参数,更是将设备的
度提升到机器的
能极限,稳定
更是变得坚若磐石。
放下测试报告,王云
和张厚德等
已经惊呆了。
事实上同样的设备,不同的
作软件,是会造成天壤之别的,特别是在
密仪器行业,国内就是吃了这个暗亏。